CVD化學(xué)氣相沉積碳鍍膜機主要用于光學(xué)鏡片表面真空鍍膜，又叫真空氣氛鍍膜機；該機高(gāo)純石英罩和(hé)加熱爐體采用升降系統進行工作，可(kě)以減少人為(wèi)接觸并提高(gāo)生産效率，真空系統可(kě)以抽完爐內(nèi)多餘氣體保證管內(nèi)在加熱過層中沒有混合氣體，加熱工作台上有放置光學(xué)鏡片托盤層架，可(kě)以先将産品放入鍍膜托盤，在将托盤放入層架中；一(yī)次放入大量産品進行鏡片真空鍍膜，石英罩內(nèi)通入反應氣體加熱分解成實驗所需化學(xué)氣體自(zì)動吸附在鏡片表面生成一(yī)種碳鍍膜。

CVD化學(xué)氣相沉積碳鍍膜機特點:

■ 采用多層隔闆設計,批量處理(lǐ)模壓光學(xué)鏡片的(de)碳鍍膜工藝,每爐可(kě)放數千個鏡片;

■ 智能化PLC程序升溫程序,真空程序,CVD進氣程序,操作簡單方便;

■ 優化幹式真空泵,杜絕油液污染,可(kě)選擇國産幹式泵和(hé)進口幹式泵;

■ 智能化CVD進氣控制系統,适應于氮氣、乙炔/甲烷、氩氣、空氣的(de)通入和(hé)混合;

■ 先進的(de)密封系統,洩漏率低(dī),長(cháng)期使用穩定性高(gāo);

CVD化學(xué)氣相沉積碳鍍膜機詳細資料:

主要用途

■ 适用于模壓非球面光學(xué)玻璃鏡片的(de)碳鍍膜工藝;

■ 适應于半導體行業晶圓表面薄膜生長(cháng);

■ 可(kě)用于陶瓷及單晶體表面沉積碳納米管工藝;

産品技術參數

産品型号:GS-30-700廣樹

使用溫度: 650℃;

使用氣氛: 氮氣、氩氣、空氣、二氧化碳、乙炔、甲烷、合氣體;

長(cháng)期使用:400-700℃;

波 動 度: ±1℃;

顯示精度: 0.1℃;

均 勻 度: 容積30L;

進氣流量:三路MFC質量流量計控制,一(yī)路浮子(zǐ)流量計控制;

升降系統: 兩套伺服升降系統平台;

控制系統:智能程序化PLC控制系統;

真空泵真空度: 極限真空1Pa;

腔內(nèi)真空度:≤10Pa;

降溫要求:外置冷卻風機,降溫階段強制降溫;

整機功率: 18KW;

電 源 : 380V, 50Hz;

水冷裝置:高(gāo)質量水冷機,PLC聯機控制

保護裝置: 過載、過流、過壓保護,接地(dì),熱電偶異常報警,二次回路超溫報警保護裝置;冷卻水溫保護,壓力過載保護;

技術服務: 提供設備使用過程中的(de)技術咨詢和(hé)支持,接到客戶故障通知3個工作時內(nèi)立即響應。